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真空加热炉

真空加热炉

来源:http://www.sinokiln.com/product941128.html

时间:2026/8/26 17:30:52

相关标签:泛半导体装备,真空加热炉,

产品详情

设备采用电阻丝外加热的方式,内/外控温,结构分为加热部分,真空部分,控制部分,气路部分,水冷部分。以多区精密温控与超纯气氛为核心,在800℃还原环境下,突破高密度装载的氢化还原炉温度均匀性控制技术,实现样机制备及性能验证,为材料处理提供安全、可靠的高品质保障。


应用场景

用于新材料制备和半导体产业中的关键装备,其作用不可替代。它主要在氢气气氛或真空环境下,对材料进行热处理和还原反应,从而改变材料的物理和化学性质。


设备主要参数:



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